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微弧氧化電源-日照微弧氧化生產(chǎn)線-微弧氧化電源原理

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經(jīng)過劇烈的微弧氧化處理之后,鋁、鎂、鈦及其合金的表面上會形成數(shù)十或數(shù)百微米的陶瓷層。這種陶瓷層不僅克服了陽極氧化的缺陷,并且地提高了氧化膜層的綜合性能。陶瓷層與基體牢固結(jié)合、結(jié)構(gòu)緊密,具有很高的韌性、耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。微弧氧化后的鋁合金強度是未處理前的5倍,是不銹鋼強度的3倍,同時抗腐蝕性比一般的陽極氧化要好得多。據(jù)相關(guān)實驗顯示,微弧氧化后的鋁制品比陽極氧化后的鋁制品耐腐蝕性要高3個數(shù)量級,也就是數(shù)百倍的程度。

微弧氧化技術(shù)工藝優(yōu)點

微弧氧化處理既與電鍍鋅等消耗性陰極處理不同,可用非消耗性的不銹鋼作陰極,微弧氧化電源報價,避免了重金屬離子從陰極溶入并隨廢水流出污染環(huán)境;又與電鍍硬鉻和重(或硬)陽極氧化等依靠消耗溶液中溶質(zhì)元素在被處理樣品表面形成保護膜層的工藝不同,微弧氧化處理主要在鋁、鎂等輕合金表面生成金屬自身氧化物的陶瓷層,理論上屬不消耗溶質(zhì)元素的處理工藝。因此該工藝可以被視為既不消耗陰極又基本不消耗電解液溶質(zhì)元素的清潔處理。

微弧氧化時間對表莫粗糙度的影響

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度隨著氧化時間的延長近似呈線性增長。這是由于氧化膜的表面粗糙度與膜層的厚度有直接關(guān)系,而膜層的增厚過程是在極高的能量條件下陶瓷膜的重復(fù)擊穿過程。在氧化初期,微弧氧化電源原理,作用在膜層上的能量較低,產(chǎn)生的熔融物顆粒較少,微弧氧化電源效率,膜層的表面粗糙度較低;隨著時間的延長,膜層表面的能量密度逐漸增大,熔融的氧化產(chǎn)物增多,并通過微孔噴射到表面。在電解液液淬作用下,氧化物冷卻凝固,并發(fā)生多次擊穿。在這種熔融、凝固、再熔融、再凝固的過程中,產(chǎn)生的氧化物顆粒黏附在陶瓷層表面的數(shù)量增多,從而增大了膜層表面的粗糙度。另外,微弧氧化電源,在成膜過程中同時存在氧化膜的溶解過程,因此,若時間足夠長,膜層在溶解過程中其表面粗糙度也會出現(xiàn)小幅度的下降。

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